如何制作光刻掩膜版？

掩盖版，又称光刻版。光盖。光盖版，英文名称PHOTOMASK，材质为石英玻璃。苏打玻璃。菲林版等。，通过真空镀膜形成铬和铬氧化物光遮蔽层，然后通过激光或电子束光刻在遮蔽层上形成所需的精密图案，主要用于集成电路(IC)、IC封装、微机电(MEMS)、功率器件和分离器件、平板显示行业(FPD)

    制作光刻掩膜版的步骤如下：

    步骤1：提供掩膜基板，在掩膜基板上涂一层光刻胶；

    步骤2：对所述光刻胶进行曝光、显影，形成光刻胶图案；

    步骤3：采用电铸工艺或物理气相沉积工艺，将一层掩膜材料沉积在金属基板上光刻胶图案的直孔内；

    步骤4:去除掩膜基板和光刻胶图案，得到初始掩膜板；初始掩膜板有多个阵列布置。开口尺寸等于蒸镀所需的设计开口尺寸的直孔通孔，以及位于两个相邻直孔通孔之间的挡墙；

    步骤5。在初始覆膜板的上下表面形成上光致蚀刻层图案。下光致蚀刻层图案；上光致蚀刻层图案完全覆盖挡墙上表面，下光致蚀刻层图案仅覆盖挡墙下表面中间部分；

    步骤6。采用化学蚀刻工艺蚀刻初始掩膜板的下表面和直孔通孔的内壁，形成斜锥角的曲线槽；曲线槽的开口尺寸自下而上逐渐减小到蒸镀所需的设计开口尺寸；光刻掩膜版制作工艺。

    步骤7：去除上下光致刻蚀层图案，得到掩膜板。